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清溢光电:正在推进130nm-65nm PSM和OPC工艺的掩膜版开发

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【清溢光电:正在推进130nm-65nm PSM和OPC工艺的掩膜版开发】!!!今天受到全网的关注度非常高,那么具体的是什么情况呢,下面大家可以一起来看看具体都是怎么回事吧!

1、【清溢光电:正在推进130nm-65nm PSM和OPC工艺的掩膜版开发】清溢光电发布的投资者关系活动记录显示,公司于1月11日接受恒生前海基金、尚正基金、格林基金管理有限公司等约40家机构的调研。

2、清溢光电表示,公司已实现180nm工艺节点半导体芯片掩膜版的量产,已实现150nm工艺节点半导体芯片掩膜版的客户测试认证。

3、目前,公司正在推进130nm-65nm的PSM和OPC工艺的掩膜版开发和28nm半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划。

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